全自动台式镀膜仪是一款多功能型高真空镀膜系统，用于制备超薄、细颗粒的导电金属膜和碳膜，以适用于FE-SEM 和 TEM 超高分辨率分析所需的镀膜要求。

参数：

离子溅射电流：15-150 mA，连续可调；

氩气消耗：18 sccm；

溅射时间：1-1800 s可调；

镀膜厚度：1-100 nm可调，自动终止，检测精度0.1 nm；

靶材直径：54 mm

功能：

导电金属膜和碳膜的制备